我们的服务
产品和技术
主要功能
- Ion Beam Sputtering Deposition
- 透過兩個區域目標的真正混合實現可調折射率
- 多達六次的鍍膜運轉，適用於創新設計
- 用於高精度厚度控制的光學寬帶監測系統
- 低離子散射值和缺陷敏感度
- 最低損耗
技术
CEC 所開發的 IBS 系統結合了數十載的光學薄膜技術經驗與客戶的特殊需求，以持續改善鍍膜品質。
這種結合產生了客製化的鍍膜系統，提供從工業批量生產所需的全自動化生產製程，到研究用的高度專業化功能鍍膜等各種產品。
所有系統的共通點都是使用我們自己的 CEC 離子源，包括鈦萃取網系統，以及在由寬頻光學監控系統控制的自動製程中應用漸進鍍膜系統（所謂的地毯濾網）的可能性。
所謂的「濺鍍上昇」製程，即基板在靶材上方旋轉，也是所有 NAVIGATOR IBS 系統的共同元素。
此外，機器的許多功能都可以模組化定制，以滿足客戶的特定需求。例如，這包括可能的基片鎖定室、可移動的二次離子源，甚至是冷卻或加熱的基片載具。
無論您對 IBS 系統有任何需求，請與我們聯絡，讓我們一起找出最佳的解決方案。
材料混合和光学宽带监控
CEC 的專長之一是能夠為不同成分的氧化物材料混合物進行塗層。這是生產低損耗 Rugate 濾波器的先決條件。利用這種創新的製程變體，可以製造出達到薄膜最高品質的抗性塗層。因此，此製程在要求嚴苛的雷射應用上非常受歡迎。
此外，CEC 的塗層系統具有寬帶光學監測 (BBOM) 功能。這可確保塗層具有優異的特性與最大的靈活性。
我们的产品
CEC 的 Navigator IBS 有三種不同類型：
- Navigator 1000 - 標準系統 我們的標準系統 - 多樣化的客制化配置，滿足您的需求。
- Navigator 1100 LL - Load-Lock 配置因可提高生產力而廣受工業客戶歡迎。
- Navigator 2500 - 導航員 適用於大面積基材的 IBS 塗佈系統，生產力更高。
標準配置
預泵浦（乾式泵浦）、高真空泵浦（N₂）（低溫泵浦）、離子源類型、萃取網 / 輸出
輔助源氣體、中和、靶材、基板移動、光學監控、機械設計、電氣設計、控制系統
腔體容積: 1000 公升
均勻的塗層面積: Ø 250 mm，均一性優於 +/- 0,5%，無掩膜
擷取網格 / 輸出: 3抽取網, 8 cm diameter, 到2 kV, 250 mA
輔助電漿源: RF-耦合 (2 MHz), filament-免費, 到 250 mA輸出
選項:
- 負載鎖定系統
- 多重監控基板
- 均勻遮罩
- 監控延伸
- 附加計量
- 基板加熱
- 雙色盤: Ø 250 mm 調色板 提高產出
- 粗糙度濾波器和梯度指數剖面能力
應用: 研發
腔體容積: 1100 公升
均勻的塗層面積: Ø 400 mm，均一性優於 +/- 0,5%，無掩膜
擷取網格 / 輸出: 3抽取網, 15 cm diameter, 到2 kV, 750 mA
輔助電漿源: RF-耦合 (2 MHz), filament-免費, 到 250 mA輸出
選項:
- 負載鎖定系統
- 多重監控基板
- 均勻遮罩
- 監控延伸
- 附加計量
- 基板加熱
- 雙色盤: Ø 350 mm 調色板 提高產出
- 粗糙度濾波器和梯度指數剖面能力
應用: 生產
腔體容積: 2500 公升
均勻的塗層面積: Ø 600 mm，均一性優於 +/- 0,5%，無掩膜
擷取網格 / 輸出: 3抽取網, 15 cm diameter, 到2 kV, 900 mA
輔助電漿源: RF-耦合 (2 MHz), filament-免費, 到 300 V, 500 mA輸出
選項:
- 負載鎖定系統
- 多重監控基板
- 均勻遮罩
- 監控延伸
- 附加計量
- 基板加熱
- 雙色盤: Ø 650 mm 調色板 提高產出
應用: 研發 適用於大表面/光學元件；適用於大批量生產